(1) Het is noodzakelijk om de verwarmingssnelheid van verschillende baktemperatuurbereiken te regelen. De verwarmingssnelheid vertraagt wanneer deze minder dan 600 graden is. De verwarmingssnelheid kan worden versneld wanneer deze tussen 600 en 1000 graden ligt. De verwarmingssnelheid moet langzaam zijn tussen 1100 en 1300 graden. Wanneer deze tussen 1300 graden en de baktemperatuur (1430 graden tot 1450 graden) ligt, moet de verwarmingssnelheid tijdens het bakproces het hoogst zijn. De langzaamste onder hen. De gebakken silicabakstenen moeten worden afgekoeld tot onder de 600 graden, vooral langzaam tot 300 graden. Dit kan de volumeverandering van kristallijne transformatie effectief bufferen, het tridymiet- en cristobalietgehalte hoger maken en de vorming van scheuren vermijden.
(2) Tijdens de bakfase bij hoge temperatuur moet een reducerende atmosfeer worden gebruikt om de mineralisatie van laaggeprijsd ijzeroxide te vergemakkelijken en de grootschalige vorming van tridymiet te bevorderen. Anders wordt -kwarts in een oxiderende atmosfeer, vooral wanneer de mineralisator onvoldoende is, grotendeels omgezet in -cristobaliet. Deze transformatie wordt "droge transformatie" genoemd.
Tijdens de droge conversie zal de structuur van het product los en gebarsten zijn als gevolg van de ongelijkmatige volume-expansie van de stenen en het ontbreken van vloeistofbufferspanning. Tegelijkertijd moet passende isolatie worden uitgevoerd bij verschillende temperatuurstadia van het bakken van silicabakstenen, zodat de silicabakstenen een redelijke fasesamenstelling hebben en aan de gebruikseisen voldoen.
(3) Verbeter het laadsysteem voor halffabrikaten om de kans op scheuren te verkleinen. Dwarsscheuren in silicabakstenen, dat wil zeggen scheuren evenwijdig aan de drukrichting van het product, worden meestal veroorzaakt door ongelijkmatige verwarming van verschillende onderdelen wanneer het product wordt gebakken. Ze verschijnen vaak op het vuuroppervlak buiten de stenen stapel, vooral op het bovenoppervlak van het product. Wat de reticulaire scheuren op het oppervlak van silicabakstenen betreft, wordt deze, naast de microscopische oneffenheden van het groene lichaam zelf als gevolg van ongelijkmatig kneden of veranderingen in grondstoffen, meestal veroorzaakt doordat het product wordt verwarmd tot een te hoge temperatuur en met grote schommelingen.
Bij het laden moeten de speciaal gevormde silicabakstenen in de ovenwagen worden geplaatst en de standaard gewone stenen moeten aan de buitenkant van de ovenwagen worden geïnstalleerd; de uitstekende delen van de speciaal gevormde stenen of de delen die vatbaar zijn voor scheuren moeten naar binnen wijzen; de bovenkant van de ovenwagen moet worden bedekt met dunne stenen om directe vlammen te voorkomen, anders zal dit tot grotere scheuren leiden.
